Email this article Двухэтапная фотоэлектронная литография для работы с хрупкими наноструктурами
- Authors: Martanov S.G.1, Tarkaeva E.V.1, Ievleva V.A.1,2, Kuntsevich A.Y.1
-
Affiliations:
- P. N. Lebedev Physical Institute of the Russian Academy of Sciences
- National Research University Higher School of Economics
- Issue: No 2 (2025)
- Pages: 140-144
- Section: ЛАБОРАТОРНАЯ ТЕХНИКА
- URL: https://rjmseer.com/0032-8162/article/view/690634
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0032816225020189
- EDN: https://elibrary.ru/glimik
- ID: 690634
Cite item
Open Access
Access granted
Subscription or Fee Access
Abstract
Представлено дополнение к электронному литографу на основе оптического микроскопа для быстрого паттернирования крупномасштабных элементов методом контактной масочной фотолитографии в ультрафиолетовом излучении на электронном резисте. Прибор ускоряет создание контактных площадок к твердотельным микро- и наноструктурам и уменьшает риск потери образца при работе с хрупкими структурами.
About the authors
S. G. Martanov
P. N. Lebedev Physical Institute of the Russian Academy of Sciences
Email: alexkun@lebedev.ru
Russia, 119991, Moscow, Leninsky Prospect, 53
E. V. Tarkaeva
P. N. Lebedev Physical Institute of the Russian Academy of Sciences
Email: alexkun@lebedev.ru
Russia, 119991, Moscow, Leninsky Prospect, 53
V. A. Ievleva
P. N. Lebedev Physical Institute of the Russian Academy of Sciences; National Research University Higher School of Economics
Email: alexkun@lebedev.ru
Russia, 119991, Moscow, Leninsky Prospect, 53; Russia, 101000, Moscow, Myasnitskaya St., 20
A. Y. Kuntsevich
P. N. Lebedev Physical Institute of the Russian Academy of Sciences
Author for correspondence.
Email: alexkun@lebedev.ru
Russia, 119991, Moscow, Leninsky Prospect, 53
References
- Carbaugh D.J., Pandya S.G., Wright J.T., Kaya S., Rahman F. // Nanotechnology. 2017. V. 28. P. 455301. https://doi.org/10.1088/1361-6528/aa8bd5
- Love J.C., Wolfe D.B., Jacobs H.O., Whitesides G.M. // Langmuir. 2001. V. 17. P. 6005. http://dx.doi.org/10.1021/la010655t
- Zheng L., Birr T., Zywiet U., Reinhardt C., Roth B. // Light: Advanced Manufacturing. 2023. V. 4. P. 33. http://dx.doi.org/10.37188/lam.2023.033
- Galiullin A.A., Pugachev M.V., Duleba A.I., Kuntsevich A.Yu. // Micromachines. 2024. V. 15. P. 39. https://doi.org/10.3390/mi15010039
- Rhee H.-G. Direct Laser Lithography and Its Applications // Lithography / Ed. by M.Wang. 2010. http://doi.org/10.5772/8167
- Pugachev M.V., Duleba A.I., Galiullin A.A., Kuntsevich A.Y. // Micromachines. 2021. V. 12. P. 850. https://doi.org/10.3390/mi12080850
Supplementary files
